硅膠制品怎么去除靜電？通過學習物理知識我們可以了解到，氣球摩擦后會附帶正電荷，硅膠摩擦后會附帶負電荷，由此產生了靜電。靜電會吸附周圍的塵埃，使硅膠制品變臟。硅膠產品如何去除靜電是許多人關注的問題，今天偉順硅膠小編就為大家介紹硅膠制品怎么去除靜電，一起來看看吧。

理論上，硅膠表面存有氧氣原子，帶負極和靜電，塵粒則帶有正極，因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引，使表面沾塵難于清理，影響產品外觀。針對硅膠表面容易沾塵的問題，硅膠制品廠致力研究解決方案，結果發現，利用等離子表面改性技術可改善有關表現，最終成功以等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術，達到優化硅膠制品表面性質的效果。

受靜電影響，一般硅膠制品容易沾塵，廠商若以傳統化學涂層方法，防塵及潤滑涂層功效只可維持數個月。好的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極，過程中使用無害的有機化學品，不會排出污染廢料，因此是清潔生產工藝。其較低靜電量特質，防塵效用高，適用于手表表帶等，亦可用于醫療設備。

等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部分，改變材料表面的物理特征。硅膠制品防塵處理環保工藝，可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題，延長產品壽命，是一種硅膠表面處理工藝。它可應用于所有硅膠及相關產品。

高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統。在鍍層過程上，電源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式，可于少于2微秒的短時間，發出高達1500V輸出電壓的強大能量，猶如閃電現象。由于過程中釋放大量的離子，消除鍍膜的內應力，因此可制成厚離子鍍層，無損產品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate)，即改善涂層在硅膠制品品表面的附著力。

高能量脈沖式等離子磁控濺射技術，能超越傳統的磁控濺射方法，制作出高質量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數。

對裝飾性強的硅膠產品來說，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結構，其特點是可沉積在光滑致密的微細結構，提升耐腐蝕性及表面光潔度。又或是可沉積在復雜的幾何工件之上，達致更均勻的涂層。

東莞偉順硅膠科技有限公司成立于2003年，一直以“合理的價格”、“高質量的產品”、“準時的交貨期”、“良好的信譽服務”為基本準則，工廠面積1500㎡，各類機臺設備20多臺，年生產各類硅膠產品150多噸，產品銷往國內各省市、歐美、非洲、亞洲等國家和地區。

硅膠制品的靜電我們可以涂抹一層涂層或者是讓硅膠表面的氧氣原子改性，兩種方法都是可行的。小編文章就到這里了，謝謝大家的閱讀。《硅膠廠是怎么選擇原材料的，看完你就明白了[今日資訊]》